1、光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介 。光刻胶的英文名为resist ， 又翻译为抗蚀剂、光阻等 。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面 。光刻胶只是一种形象的说法，因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体 。
【光刻胶的作用 光刻胶的作用是什么】2、光刻胶通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面 。当紫外光或电子束的照射时 ， 光刻胶材料本身的特性会发生改变 ， 经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面，这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上 ， 而后续的刻蚀、沉积等工艺 ， 就可进一步将此图案转移到光刻胶下面的衬底上，最后再使用除胶剂将光刻胶除去就可以了 。
