【euv光刻机原理】euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近 , 复制掩模板上的图案;直写式光刻是将光束聚焦为一点,通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工 。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点 , 是集成电路主流光刻技术 。
光刻机(Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备 。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper , 获得比模板更小的曝光图样 。高端光刻机被称为“现代光学工业之花” , 制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造 。
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