佳能光刻机多少纳米

佳能光刻机多少纳米

佳能光刻机22纳米,光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备 。光刻机可以分钟两种,分别是模板和图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;第二是类似投影机原理的stepper , 获得比模板更小的曝光图样 。
【佳能光刻机多少纳米】

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