刻蚀机和光刻机的区别如下：
1、工艺不同：刻蚀机是将硅片 。上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上 。
2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机 。
【蚀刻机和光刻机区别光刻机的制作考虑到那些外在因素 蚀刻机和光刻机区别】
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